第428章 稳态微聚束，记者公开会 (第1/3页)

    「这样看的话，确实差距很大，不过晶片制程到了2nm以下就会撞上物理壁垒，制程从此停滞不前，时间还是站在我们这一边。」

    夏然看着林东，轻声道：「至於极紫外光的光源问题……赵午教授在2011年发表的「稳态微聚束」论文，你看过吗?」

    「用高能同步辐射光源，制造高功率极紫外光?」林东神情一动，立马明白夏然说的是什麽。

    ev光刻机最核心的难题，那就是ev的13.5nm极紫外光商用化生产，目前理论探索的路线就只有四个途径。

    一个是lpp雷射等离子体，使用高能雷射轰击锡滴，从而辐射出13.5nm的极紫外光。

    一个是pp放电等离子体，藉助高压脉冲放电，将锡、氙、或者锂等介质电离，形成高能等离子体来产生ev光源。

    一个高次谐波光源，通过飞秒雷射聚焦照射在稀有气体，产生相干的ev光。

    一个是fel自由电子雷射，利用直线粒子加速器产生的高能电子束在磁场中振荡，相干辐射出ev光。

    第一种和第二种，正是现在全世界ev光刻机唯一生产厂，阿斯麦公司最初选定的商用化技术路线。

    不过pp在商用化的扩展和稳定性，遇到难以克服的瓶颈。

    最终阿斯麦是使用雷射轰击锡液的lpp路线，在2006年完成13.5nm极紫外光商用化的生产，再耗费百亿美金，完成了ev光刻机的攻克。而夏然现在说的稳态微聚束，属於fel自由电子雷射的一种升级版，结合了同步辐射光源的高频重复优点。

    正常的fel光源，重复频率比较低，而同步辐射光源，功率又比较微弱。

    稳态微聚束理论，正好把两者优点结合起来，可以实现fel高功率的相干辐射，又能实现同步辐射的高频重复，生产出各种合格的商用化光源。

    因为是稳态辐射，不是电离或者轰击，没有介质污染等问题，光源更纯净，功率也要更大。

    一旦实现就可以围绕一个光源，建设十台甚至二十台的光刻机，实现规模化集群的生产。

    「对」

    夏然夹了一块鸡肉，点点头认真道：「我昨天查了一下论文，还有ev光源的情况，阿斯麦已经在lpp路线，申请了3000项专利，建立坚实的专利壁垒，绕开的可能性很小。

    这样综合分析几个生产ev光源的技术路线，要麽走pp路线，攻克阿斯麦遇到的瓶颈，要麽就是稳态微聚束这个路线。

    不过pp路线，阿斯麦虽然没有完成攻克，但也申请了许多前置专利。

    只有2010年刚有理论的稳态微聚束路线，没有一点儿专利阻碍……」

    先进位程是为产业服务，遵循全球专利法，这样想要研究光刻机，阿斯麦这一个横在前面的巨头，就是必须绕开的对象。

    

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